Zaloguj się:
Rejestracja

Topserw - poczucie bezpieczeństwa

Produkty

RFF1000M

Aktualna kategoria:
Ochrony indywidualne / Ochrony dróg oddechowych / Maska pełnotwarzowa, podciśnieniowa VISION

Podstawowe informacje

Maska pełnotwarzowa podciśnieniowa VISION 2, gniazdo centralne z gwintem 40 mm

Nieograniczone pole widzenia
Kształt wizjera zapewnia praktycznie nieograniczone (98%), bez zniekształceń optycznych pole widzenia. Czynnik ten ma ogromne znaczenie dla poczucie komfortu użytkownika. Odpowiednio uformowany, w ykonany z poliwęglanu odpornego na zarysowania oraz rozpuszczalniki wizjer stanowi pewną i trwałą ochronę twarzy i oczu.
 
Komfort
Istotny wpływ na zwiększenie komfortu ma wykonany z gumy silikonowej (LRS – Liquid Silicone Rubber) pas uszczelniający. Szeroki, odpowiednio uformowany pas uszczelniający w kontakcie ze skórą pozostaje miękki i elastyczny zapewniając doskonałe przyleganie bez konieczności dociągania pasków mocujących. Materiał LRS nie wywołuje alergii oraz minimalizuje możliwość wystąpienia podrażnień skóry użytkownika
 
Wyważenie maski
Waga całkowita maski wynosi niewiele ponad 600g a umieszczenie filtrów w dolnej części, blisko twarzy gwarantuje doskonałe jej wyważenie. Unikamy tym samym niepożądanego napięcia mięśni szyi, istotnie zwiększając komfort użytkownika.
 
Szeroki wybór
Maski Vision 2 dostępne są w dwóch wersjach: RFF1000 z filtrem umieszczonym centralnie, RFF4000 z filtrem umieszczonym z prawej strony (oba gniazda z gwintem 40 mm). Każda z wersji oferowana jest w trzech rozmiarach: M/L, M oraz S zapewniając możliwość dopasowania maski praktycznie dla każdego użytkownika.
 
Kontrola przepływu powietrza
Maska posiada półmaskę wewnętrzną wykonaną z przyjaznego dla skóry elastomeru (TPE) przez co przepływ powietrza jest o dpowiednio u kierunkowany. Zapo biega to zaparow ywaniu wizjera oraz ogranicza poziom występowania dwutlenku węgla. Matowe wykończenie półmaski wewnętrznej zapobiega powstawaniu odblasku na wewnętrznej stronie wizjera.
 
Wąż pośredni
W sytuacjach gdzie wymagany jest zwiększony czas pracy filtrów możliwe jest zastosowanie lekkiego węża pośredniego, pozwalającego na podłączenie dwóch filtropochłaniaczy A2P3 zamocowanych na pasie. Odsunięcie filtrów od źródła zanieczyszczeń obniża opory oddychania oraz wydłuża czas pracy.
 
Konserwacja
Czyszczenie maski o dbywa się w sposób bezpośredni, bez konieczności jej rozkładania. Procedury konserwacji są proste, co w rezultacie wpływa na niskie koszty eksploatacji. Wizjer każdej maski posiada numer seryjny ułatwiający prowadzenie zapisów. Firma Scott zaleca dokonywać przeglądu maski w autoryzowanym punkcie serwisowym raz do roku lub częściej (lista punktów serwisowych dostępna w biurze obsługi klienta)
 
Szeroka gama filtrów
W maskach może być stosowany każdy z filtrów typu „Pro”. Wszystkie sprzedawane przez firmę Topserw filtry zaprojektowano tak, aby spełnić ostre w ymogi stawiane przez przemysł. Wysoki standard produkcji zapewniają rygorystyczne testy jakościowe.
 
Dostępne rozmiary

RFF1000S - maska pełnotwarzowa VISION 2, gniazdo centralne z gwintem 40 mm, rozmiar S
RFF1000M - maska pełnotwarzowa VISION 2, gniazdo centralne z gwintem 40 mm, rozmiar M
RFF1000M/L - maska pełnotwarzowa VISION 2, gniazdo centralne z gwintem 40 mm, rozmiar M/L

 

Dobór filtra, pochłaniacza lub filtropochłaniacza

EC251R - P3 flitr przeciwpyłowy - cząstki substancji stałych i płynnych, cząstki substancji radioaktywnych i toksycznych, bakterie i wirusy.

EC200R- A2 pochłaniacz - gazy i pary organiczne, np. rozpuszczalniki o punkcie wrzenia powyżej 65°C.

EC201R - B2 pochłaniacz - gazy i pary nieorganiczne, np. chlor, siarkowodór, cyjanowodór, fluor, chlorocyjan, fosgen.
EC203R - K2 pochłaniacz - amoniak i organiczne pochodne amoniaku

EC213R - ABEK2 pochłaniacz - organiczne, nieorganiczne oraz kwaśne gazy i amoniak oraz organiczne pochodne amoniaku.

EC219R - AX pochłaniacz - gazy i pary związków organicznych o punkcie wrzenia poniżej 65°C

EC220R - A2P3 filtropochłaniacz - gazy i pary organiczne, np. rozpuszczalniki o punkcie wrzenia powyżej 65°C, cząstki substancji stałych i płynnych, cząstki substancji radioaktywnych i toksycznych, bakterie i wirusy.

EC221R - B2P3 filtropochłaniacz - gazy i pary nieorganiczne, np. chlor, siarkowodór, cyjanowodór, fluor, chlorocyjan, fosgen, cząstki substancji stałych i płynnych, cząstki substancji radioaktywnych i toksycznych, bakterie i wirusy.

EC222R - E2P3 filtropochłaniacz - gazy i pary kwaśne, np. dwutlenek siarki, fluorowodór, kwas mrówkowy, dwutlenek azotu, cząstki substancji stałych i płynnych, cząstki substancji radioaktywnych i toksycznych, bakterie i wirusy.

EC223R - K2P3 filtropochłaniacz - amoniak i organiczne pochodne amoniaku, cząstki substancji stałych i płynnych, cząstki substancji radioaktywnych i toksycznych, bakterie i wirusy.

EC230R - A2B2E1P3 filtropochłaniacz - gazy i pary nieorganiczne, cząstki substancji stałych i płynnych, cząstki substancji radioaktywnych i toksycznych, bakterie i wirusy.

EC233R - A2B2E2K2P3 filtropochłaniacz - gazy i pary organiczne, gazy i pary kwaśne, amoniak i organiczne pochodne amoniaku, cząstki substancji stałych i płynnych, cząstki substancji radioaktywnych i toksycznych, bakterie i wirusy.

EC239R - AXP3 filtropochłaniacz - gazy i pary związków organicznych o punkcie wrzenia poniżej 65°C, cząstki substancji stałych i płynnych, cząstki substancji radioaktywnych i toksycznych, bakterie i wirusy.

EC238R - A1E1HgP3 filtropochłaniacz - gazy i pary organiczne, rtęć i związki rtęci, cząstki substancji stałych i płynnych, cząstki substancji radioaktywnych i toksycznych, bakterie i wirusy.

 

 

(c) copyright Topserw 2005
wykorzystywanie materiałów zawartych na stronie (grafiki i tekstu) jest zabronione
projekt i wykonanie: internet web studio